第九十八章 悲观与乐观(求首订!)-《身为法师的我只想追求真理》


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    young说上兴头了,他有点停不下来,想把他对半导体的理解和国产半导体可替代的发展跟程钢好好聊聊:

    “接下来回到我们的主题,14    nm光刻机挑战是什么?”

    “先谈finfet,finfet是加州大学伯克利分校著名教授,胡正明教授最先提出的3d    mosfet器件结构。”

    “3d    mosfet通过立体的结构实现了超越前代平面晶体管的性能。11年    intel率先将其商业化。但到了14    nm制程后,    finfet变得不再像以往可靠。”

    “首先是逃不掉的量子效应,晶体管的电流很难提高了。甚至对于一些材料,电流会变低。对于芯片而言,电流意味着速度。”

    “然后是漏电流,漏电流直接牵扯到功耗。在这么小的节点,finfet也很难控制漏电。”

    “最后是成本,按照摩尔定律,随着节点的减少,单个晶体管成本应该减少。”

    “但到了14nm制程,繁杂的光刻流程,导致单个晶体管成本反而可能会上升。”

    “中芯国际能搞定14nm制程,但是股价却迟迟上不去是为什么?”

    “就是因为14nm制程太难了,中芯国际的良品率不够高,算是半完成。”

    程钢点头道:“难怪中芯国际不再单独披露14nm和28nm工艺的营收占比情况,反而不断扩产28nm。”

    young对程钢的敏锐很满意:“即便在宣称14nm工艺量产后的这两年里,中芯国际还是把14nm和28nm的营收算在一起,现在甚至直接不公布营收占比情况了。”

    (扒了中芯国际从2020年和2021年的财报,其营收最大来源是55/65nm制程,而14/28nm营收占比2020年一季度是7.8%,到了2021年一季度占比不增反降变成了6.9%)

    注:这里只是说中芯国际的14nm不如预期,而不是说中芯国际没搞出14nm工艺。

    young继续道:“芯片代工的难度比光刻机要低的。”

    “中芯国际14nm制程都如此困难,光刻机14nm只会更加困难。”

    “致命问题代工工艺会遇上,光刻机也逃不掉。”

    “一个芯片需要上百个mask与光刻才能完成制造流程。”

    “所以光刻是最重要的部分。”

    “于是一个非常显而易见的问题发生了,如何保证这么多步光刻能刻在硅片同样的位置。”
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